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    科研成果

    一种直接X射线探测结构、探测器及探测结构制作方法

    专利名称: 一种直接X射线探测结构、探测器及探测结构制作方法
    英文名称:
    专利类别: 发明
    申请号: CN201710972261.3
    申请日期: 2017-10-18
    授权日期: 2019-06-14
    专利号: ZL201710972261.3
    第一发明人: 戴庆
    其它发明人: 李振军; 白冰; 李驰; 陈科; 周圣涵
    国外申请日期:
    国外申请方式:
    专利授权日期: 2019-06-14
    缴费情况:
    实施情况:
    专利证书号:
    专利摘要:
    其它备注:
       

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